将脉冲技术引入先进CMOS技术的可靠性测试
在氮化镓和碳化硅之后,氧化镓(Ga?O?)正以超高击穿电压与低成本潜力,推动超宽禁带功率器件进入大规模落地阶段。
但在光伏逆变、电动车快充、高压电源模块等真实工作场景中,高频大电流动态开关才是氧化镓器件日常面临的真实挑战。如何评估器件在这些动态应力下的可靠性,成为影响产品量产落地与客户信赖度的关键。
传统直流老化测试,难以真实还原动态负载场景,也难以准确捕捉在高κ材料栅结构中电荷捕获、陷阱演化等动态退化行为。脉冲应力与电荷泵技术的结合,正成为下一代氧化镓功率器件可靠性验证的关键抓手。
本篇内容将带您了解为什么在Ga?O?等先进CMOS与功率器件的可靠性验证中,需要引入脉冲应力技术,以及如何借助泰克平台与方法,更真实模拟器件在实际工作负载下的老化过程,助力从材料到器件到系统的产业落地验证。
泰克对话港科大,黄文海教授谈超宽禁带氧化镓
传统的直流应力与测量方法广泛用于表征 CMOS 器件的可靠性,如 HCI 和 TDDB 引起的退化。然而,随着 PMOSFET 和高κ材料器件中新兴电荷捕获等问题出现,可靠性测试也在演进。实际电路中器件动态开关的特性,使得动态可靠性验证需求日益增加,引入脉冲应力测试成为趋势。
研究表明,电压应力导致的界面陷阱增加是 HCI、NBTI 等可靠性问题的重要原因。将电荷泵技术引入现有直流测试,可有效监测界面陷阱,帮助理解高κ材料及先进 CMOS 工艺中的新型退化机制。
虽然常用“交流应力”表述,但在此场景中实为重复方波或梯形脉冲,本文统一称为“脉冲应力”,更准确反映测试方式。
脉冲表征 - 电荷泵
电荷泵(CP)和高频/准静态 C-V 是表征 MOS 界面陷阱密度的常用方法。然而,随着晶体管栅氧化物厚度降至 3-4nm 以下,准静态 C-V 已不适用于高κ材料界面表征。
CP 技术适用于日益广泛使用高κ薄膜的晶体管栅,能够监测界面和电荷捕获现象。通过直流或脉冲应力下的 CP 测量,可评估 HCI、NBTI、TDDB 等可靠性测试引发的器件退化量。
图1:电荷泵测量示意图。晶体管的源极和漏极连接到地面,而栅极以固定的频率和振幅进行脉冲
图1显示了与被测设备(DUT)的连接。基本的 CP 技术包括:对晶体管的栅极施加固定幅度、上升时间、下降时间和频率的电压脉冲序列时,测量基极电流。在此测试中,漏极、源连接到地面,衬底通过源测量单元(SMU)连接到地面,用于测量通过栅极的电流(Icp)。
两种最常见的CP技术是电压基极扫描和幅值扫描。在电压基极电平扫描中,周期(脉冲宽度)和电压振幅被固定,而扫描脉冲基极电压(图2a)。在每个电压下,测量体电流并绘制基本电压 (ICP vs Vbase),如图2a所示。
图2a
图2b
图2:用于电荷泵送的两种扫描类型:a)基极电压扫描 b)脉冲幅度扫描
第二种电荷泵技术是电压幅度扫描,它具有一个固定的基本电压和周期 ( 脉冲频率 ),每个扫描步骤的电压振幅都发生了变化(图2b)。所获得的数据与从电压基极扫描中提取的数据相似,但在这种情况下,电荷泵电流与电压幅度 (ICP vs 电压幅度 ) 这些测量也可以在多个频率 ( 周期 ) 上执行,以获得界面陷阱的频率响应。
对于高κ材料结构,CP技术可以将被捕获的电荷 (Nit)量化为:
在硅基板 / 界面层以外的捕获电荷可以被感知到。图2a为基底电压扫描的特征ICP曲线,而图2b为电压幅值扫描的特征ICP曲线。
CP技术也可用于表征界面阱形成的初始阶段。图3显示了使用1MHz频率的“新”CP测量(即以前未测试过的MOSFET)。暗态电流是初始的CP测量值;较浅的曲线表示随后的测量结果。请注意,在较低的电压下,ICP曲线的形状以及大小都发生了变化。在多次测量后,随着效果饱和,变化趋势就会有效地停止。曲线形状的变化表明,CP测量所施加的电应力导致了界面陷阱的形成。这意味着使用脉冲测量CP可以有效地对器件施加压力并引起一些退化。脉冲应力下的退化是对我们理解偏置温度不稳定性(BTI)和TDDB的有益补充。
图3. “新”器件上的电荷泵测量所引起的应力效应
BTI和TDDB的脉冲应力
BTI(NBTI/PBTI)和 TDDB 通常采用高温高压交替应力与测量的方式进行测试,以加速退化并缩短验证周期。
NBTI 已成为 PMOSFET 可靠性测试的重要议题,其特征是阈值电压升高、漏极电流衰减,但在应力解除后会出现“弛豫”现象,影响直流应力测量的准确性,从而导致对寿命评估的高估。此外,高κ栅材料中普遍存在电荷捕获与去捕获,进一步加剧了器件性能的动态波动,使传统直流应力方法难以反映真实工作场景下的退化行为。
为更真实模拟器件在快充、逆变等场景下的动态负载,脉冲应力技术逐步成为先进器件可靠性验证的重要手段。脉冲应力可模拟不同频率下的动态开关,应力间歇期间部分退火恢复,真实反映器件在实际应用中的老化规律,帮助工程师更准确地建立频率相关的寿命模型。
图4a
图4b
图4. NBTI应力/测量图,显示了两种不同的脉冲应力方法:a)使用传统栅极和漏极电压的动态NBTI(DNBTI)b)DNBTI模拟逆变器条件,漏极电压与栅极电压处于相反的相位
通过使用周期性应力来模拟器件在电路中的应力,脉冲应力基本上是一个短的直流应力,被没有施加应力的时间中断(图4)。对于NBTI,这种应力脉冲之间的非应力部分允许退化恢复到一定程度。这种部分恢复对确定并模拟了该器件的使用寿命行为具有重要意义。部分恢复还不能被很好地理解,并且会因每个使用器件的结构、尺寸和材料的组合而有所不同。图4显示了两个脉冲应力的例子,尽管还有其他的脉冲应力方法。图4a显示了NBTI的脉冲应力,其中漏极电压在应力间隔期间保持0V。图4b显示了NBTI的脉冲应力,除了栅极电压外漏极电压是脉冲的。这第二种方法用于模拟逆变电路中的单个器件的性能。图4b中的栅极和漏极都受到了压力,因此在器件退化过程中同时存在NBTI和HCI。一般来说,脉冲应力技术产生更少的退化,器件的寿命更长。
图5.由于脉冲应力而导致的Nit退化
对于NBTI,脉冲应力技术用于研究单个器件以及数字电路的动态行为。图5显示了不同脉冲应力持续时间导致的Nit的增加,结合了图4a的应力方法和图2a的周期性CP测量值。
除了BTI,TDDB在静态和动态故障状态中的作用可以很好地被理解。对于在TDDB测试期间监测 SILC(应力引发的泄漏电流),应力 / 测量图类似于图4a,但 Vdrain保持在一个恒定的非零电压,允许在应力期间读取Id。
结论
在超宽禁带氧化镓功率器件走向光伏、快充、高压电源真实场景落地的进程中,验证其在高频、大电流动态开关下的长期可靠性,是实现大规模应用的关键门槛。脉冲应力技术与电荷泵测量的结合,不仅能精准量化高κ栅结构中电荷捕获与陷阱演化,更能模拟真实工况下的动态负载,应力期间与恢复过程的退化与自愈特性,为Ga?O?器件建立可信的可靠性模型。
相较传统直流测试,脉冲应力验证让工程师能在更短时间内获得更真实的老化评估,推动氧化镓器件从实验室加速走向规模应用,为产业落地和客户信赖保驾护航。
-
电源模块
+关注
关注
33文章
1931浏览量
94587 -
功率器件
+关注
关注
42文章
1948浏览量
93008 -
氧化镓
+关注
关注
5文章
84浏览量
10689
原文标题:从材料到器件:氧化镓功率器件动态可靠性测试新思路
文章出处:【微信号:泰克科技,微信公众号:泰克科技】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
什么是MOSFET栅极氧化层?如何测试SiC碳化硅MOSFET的栅氧可靠性?
提供半导体工艺可靠性测试-WLR晶圆可靠性测试
电子元器件的可靠性筛选
GaN可靠性的测试
单片机应用系统的可靠性与可靠性设计
SiC MOSFET FIT率和栅极氧化物可靠性的关系
功率器件可靠性试验测试项目

评论